蔡司SIGMA 300場發(fā)射掃描電鏡
世界頂級(jí)光學(xué)品牌，可見光學(xué)和電子光學(xué)的領(lǐng)導(dǎo)者。其電子光學(xué)前身為LEO（里奧），更早叫Cambridge（劍橋）和ZEISS。1965年推出世界第一臺(tái)商業(yè)化掃描電鏡；1985年推出世界上第一臺(tái)數(shù)字化掃描電鏡。EVO系列電鏡是高性能、功能強(qiáng)大的高分辨應(yīng)用型掃描電子顯微鏡。MA 10用于材料領(lǐng)域,LS 10用于生命科學(xué)領(lǐng)域。該系列電鏡采用多接口的大樣品室和藝術(shù)級(jí)的物鏡設(shè)計(jì)，提供高低真空成像功能，可對各種材料表面作分析，并且具有業(yè)界領(lǐng)先的X射線分析技術(shù)。革命性的Beamsleeve的設(shè)計(jì)，確保在低電壓條件下提供高分辨率的銳利圖像，同時(shí)還可以進(jìn)行準(zhǔn)確的能譜分析。樣品臺(tái)為五軸全自動(dòng)控制。標(biāo)準(zhǔn)的高效率無油渦輪分子泵能夠滿足快速的樣品更換和無污染(免維護(hù))成像分析。
用途：
掃描電鏡(SEM)廣泛地應(yīng)用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機(jī)械加工)和非金屬材料(化學(xué)、化工、石油、地質(zhì)礦物學(xué)、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等檢驗(yàn)和研究。在材料科學(xué)研究、金屬材料、陶瓷材料、半導(dǎo)體材料、化學(xué)材料等領(lǐng)域進(jìn)行材料的微觀形貌、組織、成分分析，各種材料的形貌組織觀察，材料斷口分析和失效分析，材料實(shí)時(shí)微區(qū)成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測量，晶體、晶粒的相鑒定，晶粒尺寸、形狀分析，晶體、晶粒取向測量。
SIGMA 300場發(fā)射掃描電鏡技術(shù)介紹：
分辨率： 1.2nm @15 kV 2.2nm @1kV
放大倍數(shù)：10-1,000,000×
加速電壓：調(diào)整范圍：0.02-30 kV（無需減速模式實(shí)現(xiàn)）
探針電流： 4pA-20nA （40nA&100nA可選）
低真空范圍： 2-133Pa （Sigma 300VP可用）
樣品室： 365 mm（φ），275mm（h）
樣品臺(tái)：5軸優(yōu)中心全自動(dòng)
X=125mm
Y=125 mm
Z=50 mm
T=-10o-90o
R=360o 連續(xù)
系統(tǒng)控制：基于Windows 7的SmartSEM操作系統(tǒng)，可選鼠標(biāo)、鍵盤、控制面板控制
